Ep.1389 中国、国産DUV露光装置の量産を開始──米国の輸出規制網を突破する半導体自給戦略（2026年7月30日配信）

名古屋ではたらく社長のITニュースポッドキャスト · Jul 29, 2026 · 4m

タイトル

中国、国産DUV露光装置の量産を開始──米国の輸出規制網を突破する半導体自給戦略

このエピソードで登場するキーワードを説明します。

液浸DUVリソグラフィー: 露光装置のレンズとシリコンウェーハの間に純水を満たし、光の波長を縮小することで、より微細な回路パターンをウェーハ上に描画する半導体製造技術。

ASML: オランダに本社を置く世界最大の半導体製造装置メーカー。最先端の極端紫外線（EUV）露光装置を独占し、DUV市場でも圧倒的なシェアと価格決定権を持つ。

SMIC: 中国最大の半導体受託製造企業（ファウンドリ）。米国の制裁下において、既存の装置を駆使して最先端チップの製造を試みている。

多重パターニング: 1つの層に対して複数回の露光とエッチングの工程を繰り返すことで、リソグラフィー装置の物理的な解像限界を超える微細な回路を形成する技術。コストと製造難易度が跳ね上がる課題がある。

それでは解説に入ります。…